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真空镀膜机镀膜步骤,及膜的均匀性

         真空镀膜机使用越来越广泛,也被大众所认可,在生活中也启到了,不可或缺的一部分。那么真空镀膜前期,和后期镀膜步骤是怎样的呢,以及膜的均匀性如何?

前处理工艺:褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装 。镀膜工艺:抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺清洗:确保镀膜前产品表面的清洁,越新鲜的表面,越能保证镀膜质量;抽真空:将真空室内的残余气体抽走。加热烘烤:炉体和工件同时加热,加速残余气体的释放。压升率测试:测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗:去除工件表面的杂志,露出新鲜表面。镀膜:沉积膜层。冷却:避免工件氧化变色
 
真空镀膜机镀膜步骤,及膜的均匀性
 
         厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜机镀膜的技术含量所在。晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。
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