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处理真空镀膜设备镀膜不均匀

2020-08-29

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       不同工艺的真空镀膜设备处理方式有所区别,不经意的小故障都有可能影响了整台机器设备的正常运作,遇到问题需要逐一排查,拥有经验丰富的师傅往往能解决很多问题。说起镀膜的均匀性,这是评定一台真空镀膜机好坏的标准之一。在机器镀膜过程中,处理真空镀膜设备镀膜不均匀,需要排查可能影响膜层均匀性的问题所在,在批量生产前检测修复完毕。所有的镀膜设备镀制膜层都会受到一些影响膜层均匀性的情况,拿磁控溅射真空镀膜设备来简要举例:


真空镀膜设备


       磁控溅射镀膜的工作原来并不复杂,通过配备一个高效稳定的溅射源在镀膜室内一定真空度环境状态下轰击靶材,使靶材分解这是一个PVD物理过程,分解后的靶材原子通过工艺沉积产品表面形成膜层。在反应过程中,要考虑磁场的均匀性、真空环境的保压情况、保护气体三方面对膜层均匀度的影响。但有些膜层的不均匀变化也可能是溅射源的不稳定或者是靶材引起的,这类型情况比较难处理。
       要知道,无论镀膜设备自带的监控仪精度高低,它也只是能够控制镀膜室内单点位置的膜层厚度,一般指产品的中间位置,通过控制此基点膜层的均匀来保证远离此基点产品膜层的均匀。
       真空环境是通过抽气来控制的,时刻保持稳定的真空度需要精确的检测和控制系统,在真空度达到所需状态时需要停止抽气,真空度将要低于所需状态是需要及时抽气稳压。镀膜真空度有个合理的区间范围,此范围相差越小所需精度越大,控制越困难,相对的稳压更好更稳定;区间范围相差越大精度越低,对于检测和控制系统要求也低,相对压强波动更大,对于膜层均匀性影响越大。
       在过去的几年中,越来越多的客户对真空镀膜设备要求有越来越高的要求,特别是膜层密度和均匀性质量等方面,对于生产镀膜机的厂家来说提高自身工艺技术是竞争力的保障。
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